芯片廢氣處理方法-鑫藍環保

文章出處：原創網責任編輯：蔡作者：蔡人氣：-發表時間：2024-11-27 00:00:00【大中小】

芯片廢氣處理方法主要依據廢氣成分的不同而有所區別。芯片廢氣主要包括酸性廢氣、堿性廢氣、有機廢氣和特殊氣體。以下是鑫藍環保對芯片廢氣處理方法的詳細闡述：

酸性廢氣處理

酸性廢氣主要來源于芯片清洗和蝕刻過程中使用的酸性化學試劑，如硫酸、鹽酸、氟化氫等，這些過程會釋放出氟化物、硫酸霧、氮氧化物、氯化氫等污染物。處理方法主要采用濕式洗滌塔，以堿性溶液為吸收液進行中和反應，去除廢氣中的酸性成分。同時，配置多級噴淋和填料層以提高凈化效率。

堿性廢氣處理

堿性廢氣主要產生于刻蝕工序和使用氨水的工藝過程中，主要成分為氨氣（NH3）。處理方法同樣采用濕式洗滌塔，但使用酸性溶液（如10%的硫酸溶液）進行中和，去除廢氣中的堿性成分。

有機廢氣處理

有機廢氣主要來自光刻、清洗等過程中的有機溶劑，如丙酮、甲醇、二甲苯和異丙醇等，這些都屬于揮發性有機化合物（VOCs）。處理方法有多種，包括但不限于：

活性炭吸附法：利用多孔固體吸附劑來處理有機廢氣，通過化學鍵力或分子引力充分吸附有害成分，并將其吸附在吸附劑的表面，從而達到凈化有機廢氣的目的。當活性炭吸附飽和后，可采用熱空氣或蒸汽對活性炭進行再生處理，解吸出的高濃度有機廢氣再進行燃燒或催化燃燒處理。

燃燒法：在揮發性有機物在高溫及空氣充足的條件下進行完全燃燒，分解為CO2和H2O。燃燒法適用于各類有機廢氣，可以分為直接燃燒、熱力燃燒和催化燃燒。

UV光解凈化法：利用高能UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，游離氧與氧分子結合產生臭氧，臭氧具有很強的氧化性，通過臭氧對有機廢氣、惡臭氣體進行協同光解氧化作用，使有機廢氣、惡臭氣體物質降解轉化成低分子化合物、CO2和H2O。

此外，還可以采用旋轉式濃縮吸附（如沸石轉輪）結合熱氧化技術（RTO/RCO）來處理有機廢氣。先通過吸附濃縮有機廢氣，然后高溫氧化分解為無害的二氧化碳和水。

在實際應用中，芯片廢氣處理往往采用綜合處理工藝，如“水噴淋+UV光氧+干式過濾+活性炭吸附濃縮+催化燃燒”的組合工藝，或者“預處理+冷凝回收+活性炭吸附+熱再生”的組合工藝等。這些綜合處理工藝能夠更有效地去除廢氣中的有害物質，確保排放達標。

鑫藍環保科技（昆山）有限公司多年來專注于芯片廢氣處理設計、制造和安裝。我們產品有RTO蓄熱焚燒、RCO蓄熱催化燃燒、CO催化燃燒、TO直燃爐、有機廢氣處理設備、冷凝回收、防爆除塵器、酸堿廢氣處理、濾筒除塵器、防爆除塵器、單機除塵器、倉頂除塵器、旋風除塵器、洗滌塔、活性炭吸附箱、靜電除油設備等。